高真空电阻蒸发镀膜设备(JJ2024002276)采购公告

发布时间: 2024年11月05日
摘要信息
招标单位
招标编号
招标估价
招标联系人
招标代理机构
代理联系人
报名截止时间
投标截止时间
招标详情
下文中****为隐藏内容,仅对千里马会员开放,如需查看完整内容请 或 拨打咨询热线: 400-688-2000
相关单位:
***********公司企业信息
项目名称 项目编号 公告开始日期 公告截止日期 采购单位 付款方式 联系人 联系电话 签约时间要求 到货时间要求 预算总价 发票要求 含税要求 送货要求 安装要求 收货地址 供应商资质要求 公告说明
高真空电阻蒸发镀膜设备****
2024-11-05 09:14:582024-11-06 10:00:00
****供方提供货物至需方指定地点经安装验收合格,双方签字确认后,七个工作日内支付全部货款。
按照合同约定执行
**市**区同砚路38号******校****学院328

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件


采购清单1
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
高真空电阻蒸发镀膜设备 1
品牌 型号 预算单价 技术参数及配置要求 参考链接 售后服务
维纳真空
定制
1. 真空腔室:Φ300×H420mm,上钟罩(高硼硅玻璃)+下底座(304 不锈钢)结构; 2. 真空系统 :600L/s 抽速复合分子泵+直联旋片泵组成的大抽速、准无油真空系统;全量程数显复合真空计(1×105~1×10-5Pa); 3.真空极限:≤3.0×10-5Pa(2.3×10-7Torr); 4.抽速:分子泵完全启动,抽至 3.0×10-4Pa≤10min; 5.结构尺寸: (1)抽屉式结构,最大可镀基片尺寸:112×112mm,该范围内可装卡各种规格基片:15~25mm 方形 ITO/FTO 玻璃约 16~25 片; (2)基片掩膜:随设备提供一块掩膜板(客户需需提供掩膜图案); (3)衬底水冷:采用基片台背板通冷却循环水强制水冷; 6.蒸发源及电源:两组蒸发源;采用水冷式蒸发电极,可长时间稳定工作,兼容金属材料和有机材料的蒸发源结构设计;蒸发源配隔离屏蔽罩,防止两源交叉污染且屏蔽有害热量;6.膜厚监控:采用高精度石英晶振膜厚监控仪在线监测蒸镀速率、自控膜厚; 7.蒸发电源: 台蒸发电源,通过切换按钮,能实现一次真空环境两源依次蒸发;额定功率:2.3KW,恒流工作模式,最大电流 230A; 8.速率和膜厚监控:采用膜厚监控仪和开发的膜厚控制程序,蒸镀过程中实时监测蒸发速率,监控膜厚;厚度监测范围 1~9999,分辨率 1;速率监测范围 0.1~9999.9/s,分辨率 0.1; 9.水冷系统:水冷部件有分子泵、蒸发电极、膜厚仪探头等;配高精度冷却循环水机 1 台; 10.控制方式:PLC 手自动控制,触摸屏操作; 11.报警及保护:对分子泵、膜厚仪探头、蒸发电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的程序互锁、完备的防误操作设计及保护。 12. 特别定制:掩膜板一块。 二、产品配置 1. 高真空电阻蒸发镀膜设备 2. 冷却循环水机; 3.速率和膜厚检测系统; 4.衬底水冷组件; 5.衬底加热组件; 6.说明书一份; 7.包装箱一套;
按国家法定或行业要求提供售后服务。

招标进度跟踪
2024-11-05
招标公告
高真空电阻蒸发镀膜设备(JJ2024002276)采购公告
当前信息
招标项目商机
暂无推荐数据
400-688-2000
欢迎来电咨询~