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低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）中标结果公告(1)

结果-中标通知

江苏 -苏州-苏州市

发布时间： 2024年11月05日

摘要信息

中标单位

中标金额

中标单位联系人

招标单位

招标编号

招标估价

招标联系人

代理单位

代理单位联系人

关键信息

薄膜 IC PC

招标详情

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项目编号： ****

公告类型：中标结果公告

截止时间：

招标机构： ****

招标地区： **省

项目名称：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
项目编号：****
招标范围：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
招标机构：****
招标人：****
开标时间：2024-10-22 14:00
公示时间：2024-10-31 14:16 - 2024-11-04 23:59
中标结果公告时间：2024-11-05 18:55
中标人：Shintec Equipment Co., Limited
制造商：Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited， trading as Oxford Instruments Plasma Technology
制造商国家或地区：英国

招标进度跟踪

2024-11-05

中标通知

低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）中标结果公告(1)

当前信息

2024-11-01

招标公告

低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）

2024-10-31

候选人公示

低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）评标结果公示公告(1)

2024-10-09