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高真空镀膜仪（临床医学研究中心超长期国债项目）（WLU-HW-KS-NM-2024-1413）采购公告

公告-招标公告

浙江 -杭州

发布时间： 2024年11月13日

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项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式联系人联系电话签约时间要求到货时间要求预算总价发票要求含税要求送货要求安装要求收货地址供应商资质要求公告说明

高真空****研究中心超长期国债项目）	****
2024-11-13 11:12:38	2024-11-18 12:00:00
****	内贸部分：货到验收合格后付全款

	内贸部分：一周
￥380000.00




云栖校区
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单1

采购商品采购数量计量单位所属分类

高真空镀膜仪

台

品牌型号预算单价技术参数及配置要求参考链接售后服务

￥ 380000.00

1. 仪器采用了双组件设计，即可同时安装磁控溅射组件和热蒸发组件，利用磁控溅射组件可以对各种金属材料进行溅射镀膜；利用热蒸发组件在进行碳膜的制备，在两种工作模式切换时使用防污染挡板避免交叉污染。 2. 采用32位的ARM芯片作为处理器，全自主知识产权，扩展性好，可选配膜厚监控组件； 3. 采用7英寸彩色触摸式液晶显示屏，分辨率为800×480，全中文操作界面，全数字显示。 3.1 对应磁控溅射：平面磁控靶结构，确保样品无热损伤可设定：（1）溅射电流；（2）溅射时间；（3）靶材种类等参数；可显示：（1）溅射电流；（2）溅射剩余时间；（3）工作真空度；（4）靶材累计使用时间；（5）设备累计使用时间；（6）分子泵转速、轴承温度、工作电流、电压；（7）当前使用靶材种类；（8）工作方式等参数。 3.2 对应热蒸发：采用4组蒸发源设计，方便用户使用，无需每次更换可设定：（1）蒸发源使用数量（连续工作模式）；（2）蒸发脉冲数量（脉冲工作模式）；（3）系统开始工作真空度；（4）是否加热除气等；可显示：（1）设备累计使用时间；（2）工作时加热电压；（3）剩余未工作蒸发源数量（连续工作模式）；（4）剩余脉冲数量（脉冲工作模式）；（5）系统实时真空度。 4. 真空室采用高硅硼玻璃，尺寸为约为200（O.D.）×130(H)mm; 5. 溅射电流：5-200mA连续可调，最小步长为1mA； 6. 溅射时长：1-999s连续可调，最小步长为1s; 7. 可用溅射靶材：所有金属靶材、ITO靶，本机内置15种靶材的溅射参数，可以直接使用。 8. 热蒸发组件具备连续工作模式和脉冲工作模式，适用所有样品； 9. 热蒸发组件最大可设定蒸发源为4组，采用0.8mm的进口高纯碳纤维做为蒸发源； 10. 热蒸发组件在抽真空时可以自动检测4组蒸发源的状态并显示在操作界面上，在工作时自动选择/切换状态完好的蒸发源进行工作； 11. 样品台尺寸：标配Φ60mm样品台两个（蒸发镀碳和溅射镀金各一个）；可选配倾斜行星转台等； 12. 高真空泵：进口涡轮分子泵，抽速为90L/s；系统可以实时读取分子泵的转速、电源、电流、轴承温度等参数，其中分子泵工作转速可在800Hz-1200Hz之间调整，便于用户更好的了解和使用分子泵。 13. 低真空泵：旋片式真空泵，抽速为1L/s; 14. 真空规管：进口复合规，量程为1E-3Pa到1E5Pa； 15. 系统极限真空：＜5E-3Pa； 16. 工作模式：具备自动和手动两种工作模式，可在系统内设置； 17. 样品台旋转：4-20rpm可调； 18. 具备溅射电流和真空度双重互锁，安全可靠，任一条件触发，系统即可停止工作，防止因为误操作导致设备损坏； 19. 具备实时曲线显示系统工作状态——对于磁控溅射组件，可显示：（1）真空度；（2）工作电流；对于热蒸发组件，可显示：（1）真空度；（2）工作电流；（3）工作电压。 20. 仪器尺寸为：424（L）×345（W）×420(H)mm,净重25kg； 21. 仪器供电为：220V/50Hz±10%，额定功率1200W。

质保期:1年;商品承诺:质保期后，只收取零配件费，不收取人工费;

招标进度跟踪

2024-11-13

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