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高真空磁控溅射镀膜机 | 1.0/ | 199000.0 | 智诚 | ZC-2B | 1、溅射室极限真空度:≤5.0x10-5Pa(经烘烤除气后) 2、系统真空检漏漏率:≤5.0x10-8Pa.l/S 3、系统从大气开始抽气:腔室30分钟可达到8.0x10-4 Pa(空载)氮气 4、系统停泵关机12小时后真空度:≤8Pa 5、样品台:最大装载样品3英寸,也可在3英寸范围内分割成若干个小样片 7、基片公转由调速电机驱动,0-35转/分,连续可调 8、磁控溅射靶要求溅射靶角度可调,永磁间接水冷式,支持直流、射频电源溅射;靶角度、高度可调,靶基距调整范围60-110mm,从腔室两侧进入满足立体样品6个面镀膜 9、真空室为方形腔体1套,前后开门结构,腔体尺寸:约Φ510(mm)×L500×500(mm),真空腔能和1200+双小腔手套箱配合使用 10、样品可旋转:电动旋转,转速:0-35rpm,转速在线可调。可升降:电动升降,升降范围:±25mm 11、低噪音机械泵:8L/S 12、复合分子泵:620L/S 13、插板阀(电动):CF-150 14、数显复合真空计(一低一高); 15、磁控溅射靶尺寸:3英寸2只 16、射频溅射电源:500W2台 17、质量流量控制器:2只(氩气和氢气) 18、照明系统:1套。 19、水冷却循环系统:1 台 20、智能数显水冷机:1 台 制冷量:2.85KW(1P) 21、PLC+10寸触屏控制系统:1套 | 现场安装、调试、用户培训保修期一年 |