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射频离子源系统（清采比选20241647号）成交结果公告

结果-中标通知

北京 -北京-北京市

发布时间： 2024年11月21日

摘要信息

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***********公司企业信息

项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式联系人联系电话签约时间要求到货时间要求预算总价发票要求含税要求送货要求安装要求收货地址供应商资质要求公告说明

射频离子源系统	****
2024-11-18 09:24:21	2024-11-21 10:00:00
****	合同签订后70%，验收合格后30%

	签订合同后3个工作日内
￥ 222000.00




市**
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单index

采购商品采购数量计量单位所属分类

聚焦离子束系统

套

品牌型号预算单价技术参数及配置要求参考链接售后服务

￥ 222000.00

□ 主要技术参数：厂商需具备聚焦离子束在工艺和应用上的指导和开发经验，能够配合用户完成在系统上的二次开发，包含硬件支持和软件开发。 1.1 离子束系统的集成：完成离子束系统在用户指定场景或设备上的安装、调试与测试； 1.2 提供工艺工装1套，并辅助用户进行工艺相关工装设计； 1.3 射频离子源主源：1台； 1.4 射频中和器：1台； 1.5 射频离子源控制系统：包含源控制模块、束流控制模块、中和控制模块和射频控制模块，1套； 1.6 工控机：支持运动平台控制、计算软件应用等，1台； 1.7 射频离子源口径：不大于30mm； 1.8 离子源束流：5~40mA； 1.9 束流能量：50~1500eV； 1.10 栅网材质：三层钼栅； 1.11 栅网类型：聚焦栅，焦距24cm； 1.12 栅网尺寸：不大于Φ60mm； 1.13 源安装法兰：CF150； 1.14 刻蚀速率：Si>60nm/min；SiO2>120nm/min；SiC>50nm/min；Ni>100nm/min；

12个月

成交信息

成交供应商：

****

招标进度跟踪

2024-11-21

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当前信息

2024-11-18

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