磁控溅射镀膜设备

发布时间: 2025年01月10日
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****2025年1至6月政府采购意向-磁控溅射镀膜设备 详细情况
磁控溅射镀膜设备
项目所在采购意向: ****2025年1至6月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 磁控溅射镀膜设备
预算金额: 350.000000万元(人民币)
采购品目:
A-货物_A****0000-设备_A****0000-机械设备_A****2400-真空获得及应用设备_A****2401-真空获得设备
采购需求概况 :
用于含锂离子化合物薄膜材料的制备合成,**钴酸锂、锂磷氧氮、锂镧锆氧等。需求功能包括:多靶材共溅射,偏压清洗功能。
预计采购时间: 2025-01
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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2025-01-10
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