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| 等离子体干法刻蚀机（ICP） | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年5至6月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 等离子体干法刻蚀机（ICP） |
| 预算金额： | 400.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A****2002电气物理设备 |
| 采购需求概况 ： | 标的名称：等离子体干法刻蚀机（ICP）。 主要功能：用于半导体制造、集成光学、MEMS和其它微纳制造等领域，实现精密刻蚀、图案转移、金属和氧化物薄膜的处理、深宽比精细刻蚀、微结构加工及表面清洗。 采购数量：1套。 性能指标：RF：3.56 MHz；ICP：13.56 MHz；刻蚀均匀性：≤ ±5%；气体输送系统：≥6路；真空度：≤ 10-4pa；工艺控压范围：≤ 0.1 mTorr；Chiller 控温范围：-20 ～ +90℃。 |
| 预计采购时间： | 2025-06 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
