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2022年11月10日 20:47
定制双腔室12靶位25样品位超高真空磁控溅射系统 | |
项目所在采购意向: | |
采购单位: | **** |
采购项目名称: | 定制双腔室12靶位25样品位超高真空磁控溅射系统 |
预算金额: | 210.000000万元(人民币) |
采购品目: | A****2402 真空应用设备 |
采购需求概况 : | 由两个磁控溅射腔体和一个快速进样腔体组成,整体包含12个溅射靶枪和25个样品位。在不破坏超高真空的环境情况下,可以一次完成包括12种材料的25个复**层膜材料的制备。完全解决目前商业化小中型磁控溅射系统中因靶位和样品位不足,导致所能制备样品的种类和数量极大受到限制的问题。所需满足的重要性能指标要求包括:(1)真空腔体数量:2个样品制备腔室(#1平行对溅射模式Φ660㎜×450㎜,#2多靶共聚焦模式Φ450㎜×450㎜);1个快速进样腔室(ф420 mm×L400mm);(2)真空度:#1样品制备腔室和#2样品制备腔室均好于5×10-6 Pa;快速进样室好于1×10-5 Pa;(3)溅射气体控制气路:#1样品制备腔室和#2样品制备腔室各包含3条独立的溅射气体控制气路(进口质量流量计);(4)磁控溅射靶枪:#1样品制备腔室包含8个进口磁控溅射靶枪(不小于2英寸);#2样品制备腔室包含4个进口磁控溅射靶枪(不小于2英寸);(5)直流磁控溅射靶枪电源:包括至少5个进口直流磁控溅射电源(500W);(6)射频磁控溅射靶枪电源和匹配箱:包含至少3套进口射频溅射电源(含匹配箱)(600 W);(7)样品位数量:#1样品制备腔室包含18个样品位(有1位置为可加热基片,基片加热温度为室温至600℃,此位置可以加负偏压,偏压范围-5V~-200V;还有1个位置可以做液氮低温样品台的镀膜);#2样品制备腔室包含1个样品位(衬底温度可加热到700摄氏度);快速进样室包含6个样品位。 |
预计采购时间: | 2022-11 |
备注: |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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