招标编号：****

****受****委托，对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标，于2023年6月19日发布招标公告，现邀请合格投标人参加投标。

1.招标条件

1.1项目名称：介质膜沉积与刻蚀系统 1套

1.2资金到位或资金来源落实情况：资金已落实

1.3项目已具备招标条件的说明：已具备

2.招标内容

2.1项目实施地点：**省**市

2.2招标产品列表：

2.3简要技术规格：

介质膜沉积与刻蚀系统用于MEMS芯片微结构制造过程中氮化硅和氧化硅介质掩膜制备，其由PECVD等离子体增强化学气相沉积设备1台、RIE反应离子刻蚀机1台等组成（提供分项报价）。

主要技术指标：

适用6英寸圆片。

射频系统配置有低频和高频双射频源；

沉积效率≥6片/小时（6英寸1μm厚度SiO2标准片，含片间清洗、烘片、吹扫等环节）；

载片台控温范围不小于50~400℃，控温精度优于±1℃；

膜层均匀性、重复性优于±3%；

沉积SiNx、SiO2速率≥600/min；

刻蚀效率≥6片/小时（6英寸热氧SiO2标准片，刻蚀深度1μm，暴露面积≤20%）；

SiNx、SiO2刻蚀速率≥1000/min；

刻蚀均匀性、重复性优于±3%；

更多技术指标详见第八章。

3.投标人资格要求

3.1资格要求：

关境外提供的产品：由关境外投标人参与投标。一旦中标，投标人必须是与买方签订本项目外贸合同的签约方。如投标人不具备与买方签订外贸合同的能力，将否决其投标。

关境内提供的产品：由关境内投标人参与投标。

（招标采购过程中，必须谁投标、谁中标、谁签合同，不能甲投标、乙签合同）。

3.2业绩要求：所投设备必须为半导体或泛半导体行业内知名品牌的成熟产品，该品牌具有良好的销售业绩，提供2020年至今同类型设备合同或验收报告的复印件（至少3家不同用户），并由投标人的单位负责人或其授权代表签字且加盖公章。

3.3本次招标不允许联合体投标。

3.4未在航空工业电子采购平台注册并领购招标文件的潜在投标人不得参与投标。

4.招标文件的获取

4.1招标文件领购时间：2023年6月19日09:00~2023年6月27日17:00（**时间）。

4.2招标文件领购地点：航空工业电子采购平台（ebid.****.com）。

4.3招标文件售价：1000元人民币，售后不退。

5.投标文件的递交

5.1 投标文件递交截止时间：2023年7月10日上午09:00（如有变更，另行通知）

5.2 投标文件递交地点（线下）：****酒店会议室（如有变更，另行通知）

投标文件递交地点（线上）：航空工业电子采购平台电子招投标专区

5.3 逾期送达的、未送达指定地点的或者不按照招标文件要求密封的纸质投标文件，招标人将予以拒收。逾期递交的电子投标文件，电子招标投标交易平台将予以拒收。

特别说明：除递交纸质投标文件外，本项目必须同时在航空工业电子采购平台进行全流程电子招投标，招标文件购买、线上投标、开标、评标以及公示等工作均同时在航空工业电子采购平台电子招投标专区进行。请投标人及时在航空工业电子采购平台购买CA数字认证证书，否则无法进行线上投标。具体请参看航空工业电子采购平台电子招投标专区发布的相关指南，有关事项请与航空工业电子采购平台客服联系（400 890 0880）。

6.开标时间及地点

6.1 开标时间：同投标文件递交截止时间

6.2 开标地点：同投标文件递交地点

7.发布公告的媒介

本公告同时在中国国际招标网、中国招标投标公共服务平台和和航空工业电子采购平台电子招投标专区发布。

8.联系方式

招标人：****

地址：**省西咸新区沣东**西周大道3360号

联系人：王小斌

电话：86-29-****3246

邮箱：****@163.com

招标代理机构：****

地址：****学院南路62号中关村资本大厦

联系人：王欢

电话：010-****8089

电子邮箱：wanghuan@cntcitc.****.cn

9.其他补充说明

请在航空工业电子采购平台电子招投标专区下单购买招标文件，支付方式选择电汇，电汇成功后请将汇款截图上传到订单中进行审核，审核通过后可自行下载招标文件。

电汇账户如下：

户名：****

账号：020********00362296

开户银行：****银行****营业部

备注：请在电汇时备注0618开头的招标编号