非晶硅薄膜招标公告

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电子束刻蚀代加工采购项目比价公告
2024-04-26
招标公告
长沙市

...位 数量 备注 电子束刻蚀代加工 技术要求: 在我方所提供的MQW外延片上生长300nm厚非晶硅薄膜,并在非晶硅薄膜 上用电子束曝光刻蚀(EBL)我方图纸要求的光子晶体图案,且含清洗-镀膜-涂胶显影-EBL光刻-硬掩模-去胶-刻蚀-去硬掩模-表征,其中刻蚀要求如下: 非晶硅镀膜厚度误差:± 5% 线宽加工误差:线宽<200nm ±10nm 线宽>200nm...( 非晶硅薄膜 在正文中 )

电子束刻蚀代加工采购项目比价公告2024-YKQYJC-F4011第1包
2024-04-26
招标公告
长沙市

...位 数量 备注 电子束刻蚀代加工 技术要求: 在我方所提供的MQW外延片上生长300nm厚非晶硅薄膜,并在非晶硅薄膜 上用电子束曝光刻蚀(EBL)我方图纸要求的光子晶体图案,且含清洗-镀膜-涂胶显影-EBL光刻-硬掩模-去胶-刻蚀-去硬掩模-表征,其中刻蚀要求如下: 非晶硅镀膜厚度误差:± 5% 线宽加工误差:线宽<200nm ±10nm 线宽>200nm...( 非晶硅薄膜 在正文中 )

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